Positioning of masks in lithography

Lithography processes require high resolution and long-term measurement of machine movements in order to achieve maximum precision. High resolutions enable nanometer-precise positioning of masks using capacitive sensors from Micro-Epsilon. Their vacuum-suitable design enables the sensors and cables to be used in ultra-high vacuum.

Im Lithografieprozess ist eine hochauflösende und langzeitstabile Messung von Maschinenbewegungen erforderlich, um maximale Präzision zu erzielen. Dank der hohen Auflösung ermöglichen kapazitive Sensoren von Micro-Epsilon die nanometergenaue Positionierung der Masken. Vakuumtaugliche Ausführungen der Sensoren und Sensorkabel erlauben den Einsatz bis ins UHV. Zum Produkt capaNCDT 6200 Applikationen Branchen Additive Fertigung

capaNCDT 6200 模組通用型